參加“晶藝”杯中國(guó)幕墻網(wǎng)07-08大型讀者有獎(jiǎng)?wù){(diào)查活動(dòng)，投票支持道康寧。
材料、應(yīng)用技術(shù)及服務(wù)綜合供應(yīng)商道康寧(DowCorning)公司電子事業(yè)部近日宣布，將把硅聚合
樹(shù)脂(siliconpolymerresin)產(chǎn)能擴(kuò)大一倍以上，以應(yīng)對(duì)市場(chǎng)成長(zhǎng)的需求；此一材料主要用于生產(chǎn)半導(dǎo)體元件制造所需的創(chuàng)新雙層光阻。
道康寧與東京應(yīng)用化學(xué)(TOK)于2006年12月共同研發(fā)出一種將道康寧獨(dú)有的硅聚合樹(shù)脂用于成像層(imaginglayer)的雙層光阻，可提供晶片制造商193納米微影制程蝕刻選擇性。2007年12月，這兩家公司更進(jìn)一步宣布，已有一家DRAM晶片制造商將這種雙層光阻用于實(shí)際生產(chǎn)。
“隨者道康寧將產(chǎn)能擴(kuò)大后，這種雙層光阻將可供應(yīng)給更多半導(dǎo)體元件制造廠商來(lái)使用�！钡揽祵�
硅晶片微影解決方案全球行銷經(jīng)理JeffBremmer表示，“藉由增加聚合樹(shù)脂產(chǎn)能，我們希望能加速?gòu)S商采用硅基微影材料�！�
光阻是一種經(jīng)過(guò)光線照射后會(huì)變?yōu)榭扇芙饣虿豢扇芙獾墓饷舨牧希虼四芡ㄟ^(guò)后續(xù)的蝕刻制程將所選擇的部分移除。道康寧的
硅樹(shù)脂結(jié)合光敏材料后，即可使晶片制造廠商使用較薄的光阻層，以提高圖案解析度，讓制造廠商得以產(chǎn)出更小的電路圖案。
道康寧自從2004年進(jìn)入微影市場(chǎng)后，就一直與微影材料供應(yīng)商合作開(kāi)發(fā)硅基樹(shù)脂材料，用以生產(chǎn)193納米光阻和抗反射涂層材料。
