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          ×關(guān)閉
          
					
            
					
          
				
          
                          		
            
            
				
          
					
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          精彩詞條
          
				
          
					
					
          
						
          鍍膜材料
          
						
          
						
							補(bǔ)充：0  瀏覽：19880  發(fā)布時(shí)間：2012-5-29
						
          
						
          
							

          鍍膜材料
          　　

          　　對于蒸發(fā)鍍膜：
          　　
          一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程（散點(diǎn)－島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長）形成薄膜。
          　　
          　　厚度均勻性主要取決于：
          　　
          　　1。基片材料與靶材的晶格匹配程度
          　　
          　　2、基片表面溫度
          　　
          　　3. 蒸發(fā)功率，速率 
          　　
          　　4. 真空度
          　　
          　　5. 鍍膜時(shí)間，厚度大小。
          　　
          　　組分均勻性：
          　　
          　　蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。
          　　
          　　晶向均勻性：
          　　
          　　1。晶格匹配度 
          　　
          　　2。 基片溫度 
          　　
          　　3。蒸發(fā)速率 
          　
          　　高品質(zhì)真空鍍膜材料（4N-5N）：
          　　
          　　1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鈮Nb2O5，五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3等高純氧化物鍍膜材料。
          
						
          
						
						
          
							
						
          
						
					
          
				
          
		  
          
			
			
			
			
			
			
			
          
				
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