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          鍍膜材料

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          鍍膜材料
            


            對于蒸發(fā)鍍膜:
            
          一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來,并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。
            
            厚度均勻性主要取決于:
            
            1。基片材料與靶材的晶格匹配程度
            
            2、基片表面溫度
            
            3. 蒸發(fā)功率,速率
            
            4. 真空度
            
            5. 鍍膜時(shí)間,厚度大小。
            
            組分均勻性:
            
            蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。
            
            晶向均勻性:
            
            1。晶格匹配度
            
            2。 基片溫度
            
            3。蒸發(fā)速率
           
            高品質(zhì)真空鍍膜材料(4N-5N):
            
            1.氧化物:一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化鈦TiO2,二氧化鋯ZrO2,二氧化鉿HfO2,一氧化鈦TiO,五氧化三鈦Ti3O5,五氧化二鈮Nb2O5,五氧化二鉭Ta2O5,氧化釔Y2O3等高純氧化物鍍膜材料。

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